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產(chǎn)品中心

單片甩干機(jī),半導(dǎo)體晶片甩干機(jī),晶圓單片甩干機(jī),硅片單片甩干機(jī),Wafer甩干機(jī)

單片甩干機(jī)是一種用于半導(dǎo)體晶圓、掩膜板及其他基片材料的高潔凈度清洗和干燥設(shè)備。其主要特點(diǎn)包括高速甩干、快速烘干以及高效能,能夠處理不同尺寸的晶圓,并通過快速更換甩干頭來適應(yīng)不同的需求。這種設(shè)備廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造過程中的濕法清洗工藝,是該領(lǐng)域中不可或缺的關(guān)鍵設(shè)備之一。它不僅適用于2-8英寸的半導(dǎo)體晶圓,還被用于LED外延及芯片制造等其他相關(guān)行業(yè)。

晶圓單片清洗機(jī),晶圓甩干機(jī),單晶爐,多晶爐,區(qū)熔爐,,晶片檢測強(qiáng)光燈,單片甩干機(jī),梅耶博格內(nèi)圓鋸,晶圓倒角機(jī)

一、產(chǎn)品概況

1.1應(yīng)用領(lǐng)域

單片甩干機(jī)是高潔凈度清洗甩干設(shè)備具有高速甩干,快速烘干的特點(diǎn),根據(jù)不同晶圓尺寸,可通過快速更換甩干頭來實(shí)現(xiàn)。是濕法清洗工藝的主要設(shè)備,體型小運(yùn)行平穩(wěn)。其主要用于2-8英寸半導(dǎo)體晶圓、掩膜板、各種基片等材料的干燥工藝。具有成本低,快速應(yīng)用生產(chǎn)等優(yōu)點(diǎn)。

1.2外觀

1.2.1 外形尺寸:

1.2.2 機(jī)身結(jié)構(gòu):進(jìn)口PP板外殼

1.2.3 適用2”-8”晶圓加工

1.3工藝參數(shù)

1.3.1 簡便直接調(diào)速面板

1.3.2 旋轉(zhuǎn)速度:100-6000 r/min

1.3.3 運(yùn)行時(shí)間:0-999S

1.4設(shè)備配置

1.4.1 快速拆卸更換甩干頭(快插式)

1.4.2 潔凈閥門管件

1.4.3 噴藥沖水清洗功能(可選配)

1.4.4 氮?dú)饧訜岽祪?/span> (可選配)

1.4.5 靜電消除裝置和電阻率檢測控制和探頭(可選配)

1.5動(dòng)力參數(shù)

1.5.1電氣:220V1KW

1.5.2 N2OD6mm管,壓力:0.25-0.3Mpa,流量:5L/min(無選配氮?dú)饧訜峁δ軣o此項(xiàng))

1.5.3 DIOD6mm管,壓力:0.3-0.4Mpa,流量:5L/min(無選配沖水功能無此項(xiàng))

1.5.4 排水:OD 12mm(PFA)


關(guān)聯(lián)內(nèi)容