一、設(shè)備概況
1.1應(yīng)用領(lǐng)域：晶圓甩干機(jī)是高潔凈度沖洗甩干設(shè)備, 具有高潔凈沖洗，高速甩干，快速烘干，效率高的特點(diǎn)，不同晶圓尺寸，可通過(guò)快速更換轉(zhuǎn)子來(lái)實(shí)現(xiàn)。是濕法清洗工藝的主要設(shè)備，設(shè)備本身有單腔室和雙腔室2種結(jié)構(gòu)，體型小運(yùn)行平穩(wěn)。其主要用于2-8英寸半導(dǎo)體晶圓、掩膜板、各種基片等材料的高潔凈度沖洗及干燥工藝。
1.2名稱：雙腔室甩干機(jī)
1.3型號(hào)：CSM880S
1.4尺寸：710mm*520mm*1850mm
1.5晶圓規(guī)格：2-8 英寸
1.6材質(zhì)：不銹鋼機(jī)架+10mm PP板外殼
1.7設(shè)備機(jī)架：SUS304不銹鋼材料，能夠滿足潔凈室工作環(huán)境。
1.8腔體和載體采用耐腐蝕SUS316L不銹鋼并電化學(xué)拋光。片架載體可方便更換。
1.9電機(jī)及轉(zhuǎn)子經(jīng)精密的動(dòng)平衡處理，減少設(shè)備共振。
二、工藝流程
去離子水旋轉(zhuǎn)沖洗＋離心甩干氮?dú)夂娓?/span>
建議工藝參數(shù)：
階段 | 沖水 | 吹凈 | 烘干1 | 烘干2 |
時(shí)間 | 60s | 30s | 200S | 100S |
速度 | 800r/min | 1000r/min | 1800r/min | 1500r/min |
介質(zhì) | 去離子水 | 氮?dú)?/span> | 氮?dú)?/span> | 氮?dú)?/span> |
氮?dú)鉁囟?/span> | 無(wú) | 0° | 80° | 80° |
三、主要技術(shù)參數(shù)
項(xiàng)目 | 主要性能指標(biāo)和參數(shù) |
加工硅片尺寸 | 2-8英寸圓片 |
單次甩干數(shù)量 | 50片 |
工位數(shù)量（個(gè)） | 2 |
碎片率 | ≤0.01% |
顆粒增加值 | 需與客戶確認(rèn) |
旋轉(zhuǎn)速度 RPM/MIN | 200-2200 |
甩干時(shí)間 | 5-8min |
腔室及氮?dú)饧訜岱绞?/span> | 電加熱器 |
氮?dú)鈮毫?/span> | 0.25-0.3Mpa，氮?dú)夤芙涌?/span>3/8” |
氮?dú)夂牧?/span> L/min | 90 |
純水壓力 | 0.25-0.3Mpa， 管接口3/8” |
排水管 | 40mm圓管 PVC管 |
控制系統(tǒng) | 三菱PLC可編程控制器 |
顯示 | 4.3寸觸摸屏 |
電源 | AC220V |
整機(jī)功率 | 6 KW |
外型尺寸（深*寬*高）mm | 710mm*520mm*1850mm |