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產(chǎn)品中心

晶圓甩干機(jī),6寸晶圓甩干機(jī),硅片甩干機(jī),碳化硅晶圓甩干機(jī)

晶圓甩干機(jī)(Spin Rinsing Dryer, SRD)是半導(dǎo)體制造過(guò)程中用于清洗后晶圓高效脫水的關(guān)鍵設(shè)備。其主要功能是通過(guò)高速旋轉(zhuǎn)的甩干盤產(chǎn)生的離心力,輔以精密控制,實(shí)現(xiàn)對(duì)晶圓表面的精確清洗和干燥。

晶圓單片清洗機(jī),晶圓甩干機(jī),單晶爐,多晶爐,區(qū)熔爐,,晶片檢測(cè)強(qiáng)光燈,單片甩干機(jī),梅耶博格內(nèi)圓鋸,晶圓倒角機(jī)

一、設(shè)備概況

1.1應(yīng)用領(lǐng)域:晶圓甩干機(jī)是高潔凈度沖洗甩干設(shè)備具有高潔凈沖洗,高速甩干,快速烘干,效率高的特點(diǎn),不同晶圓尺寸,可通過(guò)快速更換轉(zhuǎn)子來(lái)實(shí)現(xiàn)。是濕法清洗工藝的主要設(shè)備,設(shè)備本身有單腔室和雙腔室2種結(jié)構(gòu),體型小運(yùn)行平穩(wěn)。其主要用于2-8英寸半導(dǎo)體晶圓、掩膜板、各種基片等材料的高潔凈度沖洗及干燥工藝。

1.2名稱:雙腔室甩干機(jī)

1.3型號(hào):CSM870S

1.4尺寸:710mm*460mm*1850mm  

1.5晶圓規(guī)格:2-6 英寸

 

二、主要結(jié)構(gòu)特征

2.1 結(jié)構(gòu)特征

雙腔室甩干機(jī)主要由主軸傳動(dòng)部分,片盒夾具,工作腔,機(jī)架,門蓋部分,潔凈管路部分,電氣控制等組成。

2.1.1材質(zhì):不銹鋼機(jī)架+10mm PP板外殼

2.1.2設(shè)備機(jī)架:SUS304不銹鋼材料,能夠滿足潔凈室工作環(huán)境。

2.1.3腔體和載體采用耐腐蝕SUS316L不銹鋼并電化學(xué)拋光。片架載體可方便更換。

2.1.4電機(jī)及轉(zhuǎn)子經(jīng)精密的動(dòng)平衡處理,減少設(shè)備共振。

2.1.5采用專用定制無(wú)刷電機(jī)及控制器,保證設(shè)備的穩(wěn)定、可靠及滿足系統(tǒng)對(duì)潔凈度處理的要求。

2.1.6管路系統(tǒng):PFA潔凈管路

2.2 工藝腔體及載體

2.2.1工藝腔數(shù)量2個(gè) 材質(zhì)為不銹鋼316L(腔體電解拋光處理)

2.2.2規(guī)格∶ 加工尺寸 2-6 英寸全高片盒,可兼容。

2.2.3工作轉(zhuǎn)速 2002200 RPM/MIN

2.2.4加熱功能∶ 氮?dú)饧訜?/span>  腔體加熱

2.2.5軸封:電機(jī)轉(zhuǎn)軸采用氮?dú)廨S封。

2.3 純水控制單元:

2.3.1采用扇形沖洗噴嘴。

2.3.2排水口安裝電阻率探頭,對(duì)腔體排水水質(zhì)進(jìn)行監(jiān)測(cè)。

2.3.3沖洗工藝完成后,氮?dú)鈱埩粼跊_洗管路內(nèi)的去離子水吹凈。

2.3.4待機(jī)時(shí),保持回水盒內(nèi)有水流入且流量可調(diào)。

2.4 氮?dú)饪刂茊卧?/span>

2.4.1管件閥門: SMC電磁閥、 PFA高純管件、 PTFE氣控閥門。

2.4.2氮?dú)饧訜峁δ埽?/span> 316不銹鋼加熱器在線加熱,溫度開(kāi)關(guān)控制, 加熱溫度控制在 80℃。

2.4.3配置高潔凈型減壓閥,內(nèi)置氮?dú)膺^(guò)濾器,過(guò)濾精度 0.003μm。

2.5 防靜電控制單元:

2.5.1由高壓發(fā)生器、氮?dú)怆婋x室及氮?dú)饪刂仆ǖ澜M成。

2.5.2當(dāng)?shù)獨(dú)馔ㄟ^(guò)高壓發(fā)生器的控制區(qū)時(shí),氮?dú)怆婋x充斥整個(gè)工藝腔體,形成中和平衡消除靜電。

2.6 顆粒度:

顆粒增加值:需與客戶確認(rèn)

2.7 電控單元及軟件系統(tǒng):

2.7.1 甩干工藝過(guò)程由 PLC 控制器+觸摸屏控制,可選擇設(shè)置多種用戶工藝菜單,并對(duì)每 個(gè)菜單的內(nèi)容如:時(shí)間、速度參數(shù)進(jìn)行設(shè)置。

2.7.2系統(tǒng)軟件還具有密碼權(quán)限設(shè)置,故障顯示及報(bào)警功能。設(shè)備出現(xiàn)故障時(shí),系統(tǒng)會(huì)停止工作并顯示錯(cuò)誤信息、報(bào)警以提示更改和維修。

2.8 工藝流程:

去離子水旋轉(zhuǎn)沖洗+離心甩干氮?dú)夂娓?/span>

建議工藝參數(shù):

階段

沖水

吹凈

烘干1

烘干2

時(shí)間

60s

30s

120S

200S

速度

800r/min

1000r/min

1800r/min

600r/min

介質(zhì)

去離子水

氮?dú)?/span>

氮?dú)?/span>

氮?dú)?/span>

氮?dú)鉁囟?/span>

無(wú)

0°

80°

80°

 

三、主要技術(shù)參數(shù)

項(xiàng)目

主要性能指標(biāo)和參數(shù)

加工硅片尺寸

2-6 英寸圓片

單次甩干數(shù)量

50

工位數(shù)量(個(gè))

2

碎片率

0.01%

顆粒增加值

根據(jù)客戶環(huán)境及產(chǎn)品要求確定

旋轉(zhuǎn)速度 RPM/MIN

200-2000

甩干時(shí)間

5-8min

腔室及氮?dú)饧訜岱绞?/span>

電加熱器

氮?dú)鈮毫?/span>

0.25-0.3Mpa,氮?dú)夤芙涌?/span>3/8”

氮?dú)夂牧?/span> L/min

80

純水壓力

0.25-0.3Mpa 管接口3/8”

排水管

40mm圓管 PVC

控制系統(tǒng)

三菱PLC可編程控制器

顯示

4.3寸觸摸屏

電源

AC220V

整機(jī)功率

5 KW

外型尺寸(深**高)mm

710mm*460mm*1850mm


關(guān)聯(lián)內(nèi)容