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產(chǎn)品中心

單片晶圓清洗機,晶圓單片式清洗機,晶圓清洗機,濕法清洗機

單片晶圓清洗機是一種專門用于半導(dǎo)體制造過程中對單個晶圓進行清洗的設(shè)備,其主要功能包括去除塵粒、金屬離子和其他有機物等雜質(zhì),該設(shè)備能夠?qū)崿F(xiàn)高潔凈度和高均一性,同時避免交叉污染。

晶圓單片清洗機,晶圓甩干機,單晶爐,多晶爐,區(qū)熔爐,,晶片檢測強光燈,單片甩干機,梅耶博格內(nèi)圓鋸,晶圓倒角機

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一、設(shè)備概況

1.1應(yīng)用領(lǐng)域:單片清洗甩干機是高潔凈度清洗甩干設(shè)備具有高速甩干,快速烘干,效率高的特點,不同晶圓尺寸,可通過快速更換甩干頭來實現(xiàn)。是濕法清洗工藝的主要設(shè)備,體型小運行平穩(wěn)。其主要用于2-8英寸半導(dǎo)體晶圓、掩膜板、各種基片等材料的清洗干燥工藝。具有成本低,快速應(yīng)用生產(chǎn)等優(yōu)點。

1.2名稱:單片清洗甩干機

1.3型號:QSG-150

二、主要結(jié)構(gòu)特征

單片清洗甩干機主要伺服電機,PLC控制器,人機界面,高潔凈閥門,PFA管,氮氣加熱器,防腐蝕外殼,以及甩干頭等部分組成。

2.1材質(zhì):進口PP板,能夠滿足潔凈室工作環(huán)境。

2.2專用伺服電機,可實現(xiàn)每分鐘10-3000轉(zhuǎn),低速均勻清洗,高速離心甩干。

2.3工業(yè)PLC控制器和人機界面,穩(wěn)定可靠控制各個部件,直觀可視化操作模式。

2.4大功率氮氣加熱器,快速加熱氮氣,提高烘干效率。

2.5甩干頭詳情 可根據(jù)客戶需要定制適用不同規(guī)格尺寸的甩干頭

三、主要技術(shù)參數(shù)

項目

主要性能指標(biāo)和參數(shù)

加工硅片尺寸

2-8 英寸圓片

單次甩干數(shù)量

1

工位數(shù)量(個)

1

旋轉(zhuǎn)速度 RPM/MIN

10-3000

清洗甩干時間

2-5min

腔室及氮氣加熱方式

電加熱器

氮氣壓力

0.25Mpa,氮氣管接口6mm

純水壓力

0.15Mpa 管接口6mm

排水管

12mm卡套接頭

控制系統(tǒng)

PLC可編程控制器

顯示

4.3寸觸摸屏

電源

220V

整機功率

2KW

外型尺寸(深**高)mm

365mm*300mm*535mm


關(guān)聯(lián)內(nèi)容